专利择要显示，本发明涉及建筑陶瓷技能领域，尤其涉及一种光泽均匀的柔抛砖及其制备方法，包括以下步骤：S1.制备坯体；S2.在坯体上淋底釉，形成底釉层；个中，按照质量百分比打算，底釉的化学身分包括Al2O316.73～16.89%、SiO250.48～53.69%、CaO7.01～8.04%、MgO5.45～5.79%、BaO6.54～7.01%、ZnO3.36～4.85%、K2O 3.90～4.74%和Na2O3.13～3.43%；S3.按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；S4.淋干粒保护釉，形成干粒保护釉层；S5.干燥后入窑烧制，抛光处理后得到光泽均匀的柔抛砖。本发明提出的一种光泽均匀的柔抛砖的制备方法，制备方法大略，操作性强，确保得到的柔抛砖光泽均匀，触感细腻顺滑，且具有较好的防污性能。
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