专利择要显示，本发明公开了一种透明宽带电磁屏蔽薄膜及其制备方法，该电磁屏蔽薄膜包括由下至上依次堆叠设置的高分子卷材基底、第一金属氧化物层、金属种子层、金属导电层以及第二金属氧化物层；所述金属导电层的构成材料为金属铜银，所述金属种子层的构成材料为金属铜。本发明在银膜沉积前引入超薄的金属铜种子层，作为种子层的金属铜可以提高沉积银原子表面扩散的活化能垒，从而抑制银核在表面的逃逸和扩散并实现超薄连续金属银膜的构建；基于超薄铜银复合薄膜为主体，两侧夹有导电氧化物薄膜构造，能实现对8～40GHZ范围电磁波的高效屏蔽，同时实现可见光范围内较高透过率。
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